Магнетронное распыление в samadii/plasma

Моделируемый процесс:

В области возле танталовой (Ta) мишени генерируются электроны (5.14 A).
Сгенерированные электроны сталкиваются с фоновым газом (аргон, 0.25 Па), образуя ионы Ar⁺.
Образующиеся ионы Ar⁺ ударяются о поверхность Ta и выбивают атомы тантала.

В модели учтены химические реакции. Использовалась видеокарта Nvidia RTX 4090, CUDA 12.2.